陰離子交換膜的制備方法

　　陰離子交換膜是一類含有堿性活性基團，對陰離子具有選擇透過性的高分子聚合物膜，也稱為離子選擇透過性膜。陰離子交換膜由以下三個部分組成：
 

　　高分子基體(基膜)：帶固定基團的聚合物主鏈。
 

　　活性基團：荷正電的活性基團(即陽離子)，常見的活性交換基團有-NH3+、-NR2H+或者-PR3+等。
 

　　自由移動的陰離子：位于活性基團上，可以通過膜進行傳輸。
 

　　陰離子交換膜的制備方法通常包括以下幾個步驟：
 

　　原料準備：選擇合適的聚合物原料，如SEBS顆粒等，并與其他反應物反應生成具有氯甲基化的中間產物。
 

　　鑄膜：將中間產物溶于適當的溶劑中，然后置于模具中揮發鑄膜。
 

　　離子化：將鑄好的膜浸泡在具有胺成分的溶液中進行反應，通過清洗得到目標陰離子交換膜。
 

　　性能特點：
 

　　選擇透過性：陰離子交換膜在液相中選擇性地傳輸陰離子，將其與液相中的其他離子(特別是陽離子)進行分離。
 

　　阻隔陽離子：雖然陰離子交換膜主要用于選擇性傳輸陰離子，但它們也能夠阻隔或減少陽離子的穿透。這種阻隔能力取決于膜的材料、結構、孔隙度以及陽離子的大小、電荷等因素。
 

　　化學穩定性：陰離子交換膜通常具有良好的化學穩定性，能夠在多種化學環境中保持穩定的性能。